• A
  • A
  • A
  • АБB
  • АБB
  • АБB
  • А
  • А
  • А
  • А
  • А
Обычная версия сайта

Структурные свойства тонкой пленки йодида никеля, синтезированной на поверхности поликристаллического никеля при воздействии молекулярного йода в сверхвысоком вакууме

ФИО студента: Порядин Андрей Иванович

Руководитель: Андрюшечкин Борис Владимирович

Кампус/факультет: Факультет физики

Программа: Физика (Магистратура)

Оценка: 8

Год защиты: 2021

В настоящей работе рассмотрены особенности структурных свойств тонкой пленки йодида никеля, синтезированной на поликристаллическом никеле. Подложка из никелевой фольги выбрана в целях упрощения технологии производства двумерных ферромагнетиков, как перспективных материалов для создания маломощных устройств спинтроники, широко востребованных в системах высокоскоростной передачи и обработки больших данных (big data). Исследования проведены в сверхвысоковакуумной установке Института общей физики им. А.М. Прохорова Российской академии наук (ИОФ РАН) с применением методов электронной оже-спектроскопии, дифракции медленных электронов, сканирующей туннельной микроскопии. Подобраны параметры ионного травления и прогрева для очистки поверхности, найден эффективный метод реконструкции подложки для образования террас с одноатомными ступенями, установлены условия роста трислоя NiI2. В ходе изучения структурных свойств тонкой пленки йодида никеля найдены особые образования объемного йодида никеля и определены их особенности. Разработан способ создания образцов, содержащих трислой NiI2 на различных гранях никеля, позволяющий проводить исследования при помощи сканирующей туннельной спектроскопии для различных граней никеля в ходе одного эксперимента. Работа может представлять интерес для оптимизации производства двумерных наноматериалов.

Текст работы (работа добавлена 31 мая 2021 г.)

Выпускные квалификационные работы (ВКР) в НИУ ВШЭ выполняют все студенты в соответствии с университетским Положением и Правилами, определенными каждой образовательной программой.

Аннотации всех ВКР в обязательном порядке публикуются в свободном доступе на корпоративном портале НИУ ВШЭ.

Полный текст ВКР размещается в свободном доступе на портале НИУ ВШЭ только при наличии согласия студента – автора (правообладателя) работы либо, в случае выполнения работы коллективом студентов, при наличии согласия всех соавторов (правообладателей) работы. ВКР после размещения на портале НИУ ВШЭ приобретает статус электронной публикации.

ВКР являются объектами авторских прав, на их использование распространяются ограничения, предусмотренные законодательством Российской Федерации об интеллектуальной собственности.

В случае использования ВКР, в том числе путем цитирования, указание имени автора и источника заимствования обязательно.

Реестр дипломов НИУ ВШЭ