Управление зарядовым состоянием центров окраски в кристаллах с помощью рентгеновского излучения

Данная магистерская диссертация посвящена изучению влияния рентгеновского излучения на центры окраски в алмазах и управлению их зарядовым состоянием с помощью данного излучения. Данная работа состоит из двух глав. В первой главе описываются основные понятия и теории, используемых в данной работе, такие как, фурье-преобразование, -спектроскопия, -спектрометр, взаимодействие инфракрасного излучения с веществом, понятие о центрах окраски и рентгеновское излучение. Во второй главе описываются исследуемые образцы, экспериментальная установка и основное оборудование, разработка специальной приставки для воздействия рентгеновским излучение, полученные в ходе работ экспериментальные данные и выводы по работе. В ходе данной работы было выявлено, что под воздействием рентгеновского излучения центры окраски изменяются, это показывает, что управление зарядовыми состояниями центров возможно. Также были выполнены расчеты концентраций дефектов SiV.